Цифровой двойник процесса производства микроэлектроники для технологии фотолитографии был представлен вице-премьеру Дмитрию Чернышенко во время его визита в Новосибирский государственный университет (НГУ).
Фотолитография — это метод создания определенного рисунка на поверхности материала, который широко используется в микроэлектронике и других областях микротехнологий, а также в производстве печатных плат.
«Мы разработали цифровой двойник для процесса производства микроэлектроники. В настоящее время мы разрабатываем платформу, которая будет размещена на предприятиях микроэлектронной промышленности в Новосибирске и Нижнем Новгороде. Это делается для повышения эффективности выхода новых изделий — микросхем», — сообщил вице-премьеру Михаил Марченко, руководитель проекта Центра ИИ НГУ.
Разработчик добавил, что цифровой двойник необходим для сбора данных с оборудования, его настройки с помощью компьютера и предсказания поломок. Учеными была создана модель фотолитографа, который переносит изображение с фотошаблона на поверхность будущей микросхемы. «Мы моделируем все процессы, и далее с помощью такого цифрового двойника будет осуществляться настройка оборудования», — отметил он.
Марченко подчеркнул, что цифровой двойник способен управлять десятками параметров, тогда как человек может учитывать лишь несколько из них. «Было подсчитано, что это приведет к значительной экономии времени при подборе технологических рецептов», — добавил ученый.
Глава Центра ИИ НГУ Александр Люлько уточнил, что проект реализуется по заказу Сбера. «Существует большой интерес на заводах, в том числе на Новосибирском заводе полупроводниковых приборов (НЗПП)», — добавил он.
Фото: hi-tech.mail.ru
