В России был зарегистрирован новый состав для удаления фоторезиста

В России был зарегистрирован патент на новый химический состав, предназначенный для удаления фоторезиста. Разработку осуществила компания «Технотех» из Йошкар-Олы — отечественный производитель печатных плат и радиоэлектроники. Изобретение получило официальное название «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления».Кремниевый квантовый чип ePIC, установленный на печатной плате для тестирования и похожий на материнскую плату внутри персонального компьютера.Источник: University of Bristol

В России был зарегистрирован патент на новый химический состав, предназначенный для удаления фоторезиста. Разработку осуществила компания «Технотех» из Йошкар-Олы — отечественный производитель печатных плат и радиоэлектроники. Изобретение получило официальное название «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления». 

Фоторезист — это специализированный полимерный светочувствительный материал, который имеет решающее значение в процессе производства печатных плат. Его наносят для создания технологических окон, которые позволяют травильным и гальваническим растворам действовать строго в определенных местах в соответствии с фотошаблоном.

После завершения всех технологических процессов фоторезист необходимо удалить, и именно с этой целью был разработан новый раствор.

Необходимость создания собственного состава возникла в условиях санкционного давления, ограничившего поставки специализированной химии из США и Европы. Как отметил заместитель генерального директора по инновациям «Технотеха» Владимир Потапенко, компания оказалась в непростой ситуации: привычные импортные реагенты исчерпались, а их аналоги на рынке стали недоступны.

При этом предприятие намеренно отказалось от применения устаревших технологий. 

Команда «Технотеха» в кратчайшие сроки (всего за две недели) разработала свой собственный раствор. Новый состав продемонстрировал высокую эффективность: он быстро и полностью удаляет фоторезист, не повреждая медь и олово, улучшает антикоррозионные характеристики печатных плат и предотвращает образование пены во время использования.

Созданный раствор превосходит существующие аналоги по эксплуатационным свойствам. Он позволяет обрабатывать большее количество печатных плат при использовании того же объема вещества, что делает его применение особенно выгодным для массового производства.

Раствор готовится из концентрата: для получения рабочей смеси достаточно разбавить его водой в нужной пропорции. Эта технология обеспечивает удобство и гибкость в использовании, а также позволяет оптимизировать производственные процессы.

Еще одним важным преимуществом стало снижение себестоимости. В компании отметили, что производство собственного раствора обходится значительно дешевле, чем закупка импортных составов, включая китайские. Это дает «Технотеху» возможность не только сократить затраты, но и повысить независимость от внешних поставщиков в стратегически важной области радиоэлектроники.

Появление нового запатентованного раствора стало не просто ответом на санкционные вызовы, но и шагом к укреплению технологического суверенитета России в производстве печатных плат. 

Фото: hi-tech.mail.ru

Оцените статью
Dfiles.ru