Его собрали совместно с белорусскими специалистами. Установка отличается от зарубежных аналогов уникальными технологическими решениям и у нее уже есть покупатель.
Мэр Москвы Сергей Собянин в своем официальном Telegram-канале сообщил, что в России создан первый полностью отечественный фотолитограф. Его разрешающая способность составляет 350 нм. Разработала оборудование для производства чипов российская компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва».
В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия.
Источник