Zeiss увеличивает производство высокоточной оптики для 2-нанометровых чипов

Zeiss — главный поставщик оптических систем для новейших литографических машин ASML High-NA EUV

Процессоры1926 июл 15:23

Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) объявила о значительном расширении своего производственного комплекса в Оберкохене. Организация возведет около 25 тысяч квадратных метров новых производственных и вспомогательных площадей, где будут создаваться оптические системы для литографических установок ASML — оборудования, которое сегодня является незаменимым для производства самых современных микросхем.

Изображение сгенерировано ChatGPT

Часть нового комплекса уже начала функционировать: первые сотрудники начали работу в одном из зданий, в то время как остальные корпуса будут вводиться в эксплуатацию поэтапно.

Это расширение имеет стратегическое значение не только для Zeiss, но и для всей глобальной полупроводниковой индустрии. Заводы компании в Оберкохене и Вецларе остаются единственными в мире, где производятся оптические колонны для EUV-литографических машин ASML.

Это подтверждает и сама ASML. В своем годовом отчете компания прямо указывает, что объём выпуска литографических машин в настоящее время ограничен именно производственными мощностями Zeiss SMT. Более того, немецкая компания является единственным поставщиком критически важных оптических компонентов — линз, сверхточных зеркал, осветительных систем и коллекторов. Длительная остановка поставок фактически парализовала бы производство литографических машин ASML.

При этом потребность в таком оборудовании продолжает стремительно расти. Ранее ASML сообщила инвесторам о намерении увеличить выпуск EUV-сканеров Low-NA примерно на 30% уже в 2027 году — с текущих около 65 установок в год. Аналогичное расширение рассматривается и на 2028 год. В то же время компания оптимизирует производство: время сборки одного литографического комплекса планируется сократить примерно с 22 до 15–16 недель.

Особенно важным становится расширение Zeiss на фоне начала массового производства систем нового поколения High-NA EUV. Их оптические модули считаются одними из наиболее сложных инженерных изделий в мире. Одна только оптическая колонна состоит более чем из 40 тысяч деталей и весит около 12 тонн, а система освещения добавляет еще 25 тысяч компонентов и примерно 6 тонн массы.

Изготовление отдельных зеркал занимает несколько месяцев. После производства они проходят проверку в огромных вакуумных камерах весом свыше 150 тонн, где специалисты измеряют отклонения поверхности с точностью до долей нанометра.

Чтобы ускорить расширение производства, ASML продолжает активно финансировать своего ключевого партнера. По итогам 2025 года объём выданных Zeiss SMT кредитов достиг 1,91 млрд евро, еще 1,19 млрд евро компания перечислила в качестве авансов за будущие поставки оптических систем. Кроме того, стороны заключили дополнительные долгосрочные соглашения о финансировании дальнейшего расширения производственных мощностей.

Инвестиции уже отражаются на результатах бизнеса. По итогам финансового года, завершившегося в сентябре 2025 года, выручка подразделения Zeiss SMT увеличилась на 23%, достигнув 5,055 млрд евро. Благодаря этому направление стало крупнейшим бизнесом всей группы Zeiss.

Помимо строительства новых мощностей в Оберкохене, компания одновременно возводит еще один производственный комплекс в Вецларе, расширяет площади чистых помещений в Россдорфе и открыла инновационный центр в Южной Корее.

DexterИсточники:Toms HardwareПроцессоры19Zeiss26 июл 15:23

Источник
Оцените статью
Dfiles.ru